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SK海力士针对DRAM生产线评估KCTech的超临界流体清洁剂

7月9日消息,据THE ELEC报道,SK海力士正在评估KCTech的超临界流体清洁剂,是否可用于其DRAM生…

7月9日消息,据THE ELEC报道,SK海力士正在评估KCTech的超临界流体清洁剂,是否可用于其DRAM生产线。

消息人士称,SK海力士一直在从东京电子公司采购这种设备,因此如果KCTech通过评估,它将成为二级供应商。

SK海力士表示,KCTech预计将在年内通过评估,但由于在清洁器中使用超临界流体是一项复杂的技术,因此可能需要更长的时间。

超临界是指温度和压力高于其临界点的状态。超临界状态的流体具有介于液体和气体之间的性质,可以轻松溶解晶圆上不需要的残留物和污染物。

这意味着这种状态下的这些流体可以很容易地溶解不需要的残留物并密封在晶圆上。此外,由于它们具有气体特性,它们可以深入晶圆上的电路图案,以去除那里的残留物和密封层。

自10纳米(nm) 级DRAM生产以来,超临界流体一直用于晶圆清洗器。只有少数晶圆厂设备制造商将该技术商业化,例如韩国的Semes和日本的Tokyo Electron。

在采用之前,当清洁液干燥时,晶圆会旋转。然而,这种方法可能会导致 10nm 级芯片中的图案翘曲,图案与附近的图案啮合。超临界流体晶圆清洗器不需要纺丝晶圆,这有助于提高生产线的良率。

消息人士称,KCTech在过去三年中一直与SK海力士秘密合作开发新型清洁剂。

据悉,预计每个单位的成本将超过100亿韩元,这意味着KCTech在研发方面是一项昂贵的投资。