5月30日消息，据外媒TheElec报道，SK海力士计划在第6代（1c工艺 约10nm）DRAM的生产中使用Inpria下一代金属氧化物光刻胶（MOR），这是MOR首次应用于DRAM量产工艺。

消息人士称，SK海力士量产的1c DRAM上有五个极紫外 (EUV) 层，其中一层将使用MOR绘制。

他还补充说，不仅SK海力士，三星电子也将追求这类无机PR材料。

Inpria是日本材料企业JSR的子公司，在无机光刻胶方面处于领先地位。该公司自2022年以来，一直与SK海力士合作从事MOR研究。SK海力士此前曾表示，使用Sn（基）氧化物光刻胶将有助于提高下一代DRAM的性能并降低成本。