ASML 向英特尔交付首台高数值孔径光刻设备

12 月 22 日消息,ASML 公司近日通过官方 X(推特)账号发布推文,宣布已经向英特尔交付首台高数值孔径…

12 月 22 日消息,ASML 公司近日通过官方 X(推特)账号发布推文,宣布已经向英特尔交付首台高数值孔径光刻设备。

此前报道,ASML 研制的高数值孔径光刻设备主要用于生产 2nm 工艺半导体芯片,数值孔径(NA)光学性能从 0.33 提高到 0.55。

ASML 明年规划产能仅有 10 台,而英特尔已经预订了其中 6 台,不过 ASML 计划在未来几年内将此设备产能提高到每年 20 台。

ASML 新的高数值孔径 EUV 系统涉及一种全新的工具,具有 0.55 数值孔径的镜头,分辨率为 8 纳米。

ASML 官方并未说明向英特尔交付了哪款型号的光刻设备,非官方消息来源称本次交付的是 Twinscan EXE:5000 原型,交付给英特尔位于俄勒冈州的研究中心。

报道称本次交付采用了 250 个大箱包装,共计占用了 13 个集装箱,考虑到交货时间和后续安装,真正投入使用还需要数月时间。

此外报道称,英特尔在量产过程中,会使用 ASML 更先进的 Twinscan EXE:5200 光刻设备,预估一台成本为 2.5 亿欧元。

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