12月22日消息，据媒体报道，荷兰半导体设备制造巨头阿斯麦（ASML）确认，向英特尔交付首台高数值孔径（NA）的极紫外（EUV）光刻系统。

据介绍，每台新机器的造价成本超过3亿美元（约合21.4亿元人民币），可以满足一线芯片制造商的需求，未来十年内能够制造更小、更好的芯片。

阿斯麦发布了这台机器的一部分从荷兰维尔德霍芬总部出发的照片，照片中机器的一部分被装在一个保护盒里，周围还系着一条红丝带。

阿斯麦同时表示：“我们很兴奋，也很自豪能将我们的第一个高数值孔径EUV系统交付给英特尔。”

这台机器组装后将比一辆卡车还大，将用250个单独的板条箱运送，其中包括13个大集装箱，预计将从2026年或2027年开始用于商用芯片制造。

早前相关报道，就在12月19日，SamMobile 消息称，ASML 将于未来几个月内推出用于 2nm 制程节点的芯片制造设备，将数值孔径（NA）光学性能从 0.33 提高到 0.55。

报道称，ASML 明年规划产能仅有 10 台，而英特尔已经预订了其中 6 台。

英特尔发言人称，公司将成为 ASML 第一台 EXE:5200 的买家。与 EXE:5000 相比，EXE:5200 预计将带来几项改进，包括更高的生产率等等。