台积电副总经理张晓强:2nm制程已达到50%良率以上,目标80%以上

7月3日消息,日前,台积电副总经理张晓强透露,2nm制程工艺N2研发顺利,能够按照之前的预定的目标2025年量…

7月3日消息,日前,台积电副总经理张晓强透露,2nm制程工艺N2研发顺利,能够按照之前的预定的目标2025年量产。

 

张晓强还透露了2nm工艺的良率情况,目前256Mb SRAM芯片已经可以做到50%良率以上,目标则80%以上。

 

据了解,台积电2nm工艺会放弃FinFET晶体管工艺,转向GAA晶体管,相较于N3E工艺,N2在相同功耗下速度增快10%-15%,或在相同速度下功耗降低25%-30%,不过晶体管密度提升就只有10-20%了。

 

不过技术先进的代价就是2nm代工价格越来越贵,在3nm涨价到2万美元的基础上,2nm代工一片晶圆的价格是2.5万美元,超过18万元人民币。

 

好在2nm近期就会在竹科基地建立小量试产生产线,目标今年试产近千片。

 

试产顺利的话,台积电2nm将导入后续建设完成的竹科宝山晶圆20厂,由该厂团队接力冲刺2024年风险试产与2025年量产目标。

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